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董红杰1,赵洪运2,宋晓国1,冯吉才2,李卓霖1. Ni-Cu低温TLP扩散连接接头组织及性能[J]. 焊接学报, 2017, 38(10): 125-128. DOI: 10.12073/j.hjxb.20151208002
引用本文: 董红杰1,赵洪运2,宋晓国1,冯吉才2,李卓霖1. Ni-Cu低温TLP扩散连接接头组织及性能[J]. 焊接学报, 2017, 38(10): 125-128. DOI: 10.12073/j.hjxb.20151208002

Ni-Cu低温TLP扩散连接接头组织及性能

  • 摘要: 采用厚度40 μm的纯锡钎料中间层在镍和铜基板间实现了低温瞬态液相扩散连接(transient liquid phase bonding,TLP Bonding),通过延长等温反应时间,获得了完全由(Cu,Ni)6Sn5和Cu3Sn两种金属间化合物相(intermetallic compounds,IMCs)组成的焊接接头. 在Ni-Cu TLP扩散连接液-固反应过程中,Sn/Ni和Sn/Cu界面处均形成了(Cu,Ni)6Sn5,但晶粒形貌存在差异,从镍侧到铜侧化合物形貌依次是小颗粒状、针状和扇贝状. 此外,Cu3Sn的生长受到了抑制. 该IMCs接头具有418.4℃的重熔温度和49.8 MPa的平均抗剪强度,能够满足高温功率器件封装中对耐高温互连的需求,并且有助于提高电子器件在恶劣条件下服役时的可靠性.

     

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